艺术风格生成助手

艺术风格分析

• 识别的主要风格特征
  • 赛博霓虹配色：高饱和电光色（青/品红/电蓝/酸绿），强对比与发光边缘
  • 手绘质感：清晰线稿、粗笔刷与马克笔渲染、纸张/画布纹理
  • 科幻插画语汇：模块化科技服饰、发光电路、HUD/界面元素、全息与微粒特效
  • 光影与氛围：双主色边缘光+背光、体积雾、湿地反射、城市夜景霓虹
  • 版式与结构：角色表布局（多视图+细节）、深色中性背景、注释与网格辅助线
• 对应的艺术流派
  • 赛博朋克、霓虹黑色（Neon Noir）
  • 手绘科幻概念插画、合成波/未来合成美学（Synthwave）
• 风格强度评估
  • 强烈（建议高stylize与高对比、显著发光与色差）

Midjourney提示词

[角色设定·模板]
赛博霓虹手绘科幻插画角色设定，角色：{角色名/身份/性格要点}，角色表布局：正面 / 侧面 / 背面 / 半身特写 / 道具与徽记，手绘线稿+粗笔刷+马克笔质感，纸张纹理，霓虹配色（青 / 品红 / 电蓝 / 酸绿），高对比，强烈双侧边缘光与背光，发光电路与HUD标注，模块化科技服装细节，深色中性背景与网格辅助线，版式整洁、留白合理，清晰标签与指示线，未来都市语汇但非写实，--ar 3:2 --v 6 --stylize 750 --quality 1 --chaos 5 --seed 123456 --no photorealism, blur, lowres, gore, political

[氛围设定·模板]
赛博霓虹手绘科幻插画氛围设定，场景：{城市片区/功能空间/时间/天气}，雨后夜景与湿地反射，体积雾与微粒，全息广告与霓虹招牌，深色环境中高饱和发光元素，手绘线稿+粗笔刷渲染，画布或纸张纹理，HUD叠加与图形构成，青/品红双主光+背光，层次分明、景深清晰，未来都市但保持插画感，--ar 16:9 --v 6 --stylize 800 --quality 1 --chaos 8 --seed 123456 --no photorealism, blur, lowres, gore, political

使用说明

• 提示词参数解释
  • --ar：画幅比例。角色表建议3:2横构图；氛围建议16:9以展现场景。
  • --stylize：风格化强度。750–800呈现强烈赛博霓虹手绘质感。
  • --quality：渲染质量。1为常用速度与细节平衡；定稿可改为2。
  • --chaos：变化幅度。5–8利于探索但不失控；系列统一可降至0–3。
  • --seed：固定随机种子。保持一致以维持系列风格与细节稳定。
  • --no：排除项。避免走向写实摄影与不当内容，确保插画观感。
• 预期效果描述
  • 角色设定：多视图角色表，清晰线稿与发光细节，整洁注释布局，强烈霓虹反差。
  • 氛围设定：夜景赛博城市空间，体积光雾与霓虹反射，插画笔触明显、非摄影写实。
• 调整建议
  • 强化手绘质感：加入“粗糙笔触、交叉排线、涂改痕迹、纸张边缘微瑕”等词。
  • 提升发光效果：增加“强烈边缘光、Bloom、光晕层级、色差微弱（chromatic aberration subtle）”。
  • 降低风格化以突出设计：--stylize 350–500，并强化结构性描述与材质标签。
  • 统一系列角色：固定色组词（青/品红/电蓝），统一注释语言与版式短语，保留相同--seed。

风格组合建议

• 可搭配的其他风格
  • 合成波/未来合成（Synthwave）、霓虹黑色（Neon Noir）
  • 蓝图草图（Blueprint sketch）、等距构成（Isometric）、故障艺术（Glitch）
  • 漫画分镜与标注（Comic layout with callouts）
• 参数调整方案
  • 探索型：--chaos 15–25，--stylize 600–900，快速出多样氛围。
  • 定稿型：--quality 2，--stylize 450–650，降低--chaos至0–2以稳定形态。
  • 角色近景竖构图：--ar 4:5 或 3:4，强化“半身特写、材质标签、面部光影”。
• 进阶创作思路
  • 系列一致性：为每个角色设“标识短语+色组+材质库”（如“发光碳纤维、软质仿生皮革、透明亚克力”），在提示词中保持重复。
  • 场景套系：固定“气候/时间段/主光色组”（如“雨后夜、青品红双主光”），通过建筑功能词与人群密度词微调主题。
  • 版本管理：保留相同--seed生成变体，仅调整服装模块、配件与环境标签，实现快速系列化迭代。